Thin film evaporator

  下图展示的是最常用的精制/浓缩系统工艺流程。在原料供给速度、操作真空度、加热温度等条件一定的情况下，馏出液和残液能持续稳定地排出薄膜蒸发系统。

  材质

  我们能提供从实验室级别到工业化级别各种型号的蒸发器，蒸发面积从0.1m2到40m2，操作温度上限可达到400°C。根据物料的性质我们有多种不同的刮膜系统可供选择。蒸发器内与物料接触部位的材质将根据所处理物料的腐蚀性和活性进行选择，一般以SUS316不锈钢为标准设计制作，也可以按照客户的特殊要求，设计成碳钢、哈氏合金、钛材等他材质，或者是没有金属与物料接触的搪玻璃材质。